Ceramics-Silikáty 14, (2) 187 - 193 (1970)

Je sledováno, jak mez citlivosti fotografického způsobu registrace závisí na expozici snímku. Odklon kalibrační křivky zčernání filmu od lineární závislosti u vyšších hodnot zčernání a konečná šířka štěrbiny fotometrii limitují expozici snímku. V důsledku toho též určují mezní stanovitelnou koncentraci při nejvhodněji volené expozici. Závislosti jsou experimentálně zkoumány pro metodu Debye-Scherrer při kvantitativním stanovení α-Mn₂O₃ ν Mn_0,5Zn_0,5Fe₂O₄.