Ceramics-Silikáty 14, (3) 223 - 230 (1970)

V článku jsou popsány výsledky studia vlivu fluoridu hlinitého a vápenatého na růst krystalů kysličníku hlinitého za teplot 800-1400 °C. Bylo zjištěno, že účinkem velmi malých koncentrací těchto látek (0,2-1 %) vzniká při tepelné expozici kysličník hlinitý o podstatně menším specifickém povrchu, a tedy větší velikosti krystalů, než jaký poskytuje za jinak stejných podmínek samotný hydrát nebo kysličník hlinitý. Rychlost růstu krystalů, Al₂O₃ lze ovlivňovat teplotou a koncentrací fluoridů.