Ceramics-Silikáty 28, (2) 141 - 146 (1984) |
|
VÝVOJ TEPLOTNÍHO PROFILU V KERAMICKÉM TĚLESE
|
Havrda Jiří, Novotná Eva, Oujiří František
|
Vysoká škola chemicko-technologická, Katedra technologie silikátů, Suchbátarova 5, 166 28 Praha 6
|
Je proveden numerický výpočet vývoje teplotního profilu v tělese tvaru desky, který je porovnán s experimentálně stanoveným. Bylo zjištěno, že závislost koeficientu teplotní vodivosti na teplotě lze v podmínkách binární směsi zanedbat. Výsledky potvrdily spolehlivost koeficientu teplotní vodivosti stanoveného metodou dvou tepelných zdrojů. |
 PDF (0.7 MB) |
|
